Daifuku stellt neues Fabrikgebäude für Halbleiterproduktionslinien fertig

Deutliche Steigerung der Produktionskapazität und Entwicklungskompetenz als Reaktion auf die wachsende Marktnachfrage

Osaka, Japan –Daifuku Co., Ltd. („Daifuku“) hat am 3. April 2026 den Bau ihres neuen Fabrikgebäudes für Transport- und Lagersysteme für Halbleiterfertigungslinien abgeschlossen. Das neue Gebäude befindet sich im Werk Shiga (Hino-cho, Präfektur Shiga, Japan), dem wichtigsten Produktionsstandort von Daifuku. Die neue Anlage wird die Produktionskapazität des Unternehmens im Bereich Reinraumfertigung in Japan um 30 % erhöhen.

Daifukus Reinraumsparte betreibt Produktionsstätten in Japan, Taiwan, China und Südkorea und erweiterte 2023 ihre Produktionskapazitäten in China und Südkorea. Mit diesem neuen Fabrikgebäude im Werk Shiga stärkt Daifuku seine Produktions- und Entwicklungskapazitäten im Einklang mit der wachsenden Nachfrage nach Halbleitern, die durch den Aufstieg der KI bedingt ist.

Das neue Fabrikgebäude umfasst eine Fläche von 19.600 Quadratmetern und beherbergt Produktions- und Forschungs- und Entwicklungseinrichtungen sowie Büroräume. Daifuku legte bei der Gestaltung des Produktionsbereichs Wert auf Flexibilität, um Anpassungen des Layouts an Produkteigenschaften und Prozessänderungen zu ermöglichen. Durch die Nutzung dieser flexiblen Umgebung zur kontinuierlichen Optimierung der Produktionsprozesse will das Unternehmen seine Produktivität weiter steigern.

Der neue Forschungs- und Entwicklungsbereich bündelt Funktionen, die zuvor über das gesamte Werk in Shiga verteilt waren, und schafft so ein System, das eine enge Zusammenarbeit von der Entwicklung bis zur Produktion ermöglicht. Zur Unterstützung der Entwicklung hat Daifuku eine komplexe Testlinie installiert, die die Reinraumumgebung einer Halbleiterfabrik nachbildet. Durch detaillierte Verifizierungen während der Entwicklung reduziert das Unternehmen die Anpassungszeiten vor Ort und erzielt kürzere Projektlaufzeiten. Mit einer Deckenhöhe von rund 20 Metern bietet der Bereich zudem Platz für die Entwicklung großflächiger Systeme. Die neue Anlage wird die Entwicklung von Systemen für Back-End-Prozesse bei Daifuku beschleunigen, wo die Nachfrage nach Automatisierung stetig wächst.

Darüber hinaus hat Daifuku bei der Planung der neuen Fabrik auf ökologische Nachhaltigkeit geachtet und auf dem Dach des Gebäudes eine Solaranlage mit einer maximalen Kapazität von 1.750 kW errichtet.

Atsushi Sonoda, Geschäftsführer und Leiter des globalen Geschäftsbereichs Reinräume bei Daifuku Co., Ltd., kommentierte:
Das neue Fabrikgebäude wird als zentrales Entwicklungs- und Produktionszentrum für unser Reinraumgeschäft dienen. Durch die optimale Nutzung seiner Kapazitäten werden wir schnell hochwertige Systeme liefern, die den wachsenden Bedürfnissen unserer Kunden gerecht werden und so zur Weiterentwicklung der Halbleiterindustrie beitragen.

Übersicht über das neue Fabrikgebäude

Name Gebäude G
Gebäudefläche 19.600
Gesamtgeschossfläche 21.400
(Fertigung und Forschung & Entwicklung: 16.800 , Büro: 3.400 )
Primäre Funktionen Entwicklung und Produktion von Transport- und Lagersystemen für Halbleiterproduktionslinien
Baubeginn April 2024
Bau abgeschlossen April 2026

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